为AI数据中心注入高压高效能量:VBP165C40-4L,重新定义800V PFC级电源转换效率
时间:2025-12-09
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在人工智能计算爆发式增长的今天,AI数据中心的功率密度与能耗挑战日益严峻。作为高压电源系统的关键环节,800V PFC级的高效、稳定与可靠转换,直接关系到整个供电链路的性能与能源成本。为此,我们隆重推出专为AI数据中心800V高压电源PFC级优化的SiC MOSFET解决方案——VBP165C40-4L,以卓越性能助力超大规模数据中心能效跃升新台阶。
极致效率,赋能绿色高压架构
AI数据中心功耗巨大,PFC级转换效率至关重要。VBP165C40-4L凭借其优异的50mΩ(@Vgs=18V)导通电阻(RDS(on)),在高压PFC关键功率级,能显著降低导通损耗,提升电能质量与利用效率。这直接转化为更低的系统损耗、更高的整机能效与更优的运营支出。
高压平台,应对前沿设计趋势
现代数据中心电源正向800V及以上高压母线架构演进。VBP165C40-4L采用经典的TO247-4L封装,在提供强大高压功率处理能力的同时,兼顾了优异的散热与驱动性能。其单N沟道配置与开尔文源极设计,让电源设计师能够构建更高效率、更高功率密度的高压PFC电路,从容应对下一代AI数据中心的严苛需求。
强劲稳健,保障高压可靠运行
面对高压PFC级的复杂工况,VBP165C40-4L展现了全方位的稳健性:
650V的漏源电压(VDS) 与 -10 / +20V的栅源电压(VGS),为800V系统应用提供了充分的安全裕量,确保在高压波动下稳定工作。
2~5V的阈值电压(Vth),兼顾了驱动的便利性与抗干扰能力。
高达40A的连续漏极电流(ID) 承载能力,足以驾驭高压大功率场景的严酷考验。
先进技术,铸就卓越性能
内核采用先进的 SiC(碳化硅) 技术。该技术凭借其宽禁带特性,实现了高压下极低的导通损耗与开关损耗,以及优异的高温工作性能。这不仅显著提升了PFC级的工作频率与效率,也减小了无源元件的体积与系统散热需求,为构建紧凑、高效的高压电源平台奠定了坚实基础。
VBP165C40-4L 关键参数速览
封装: TO247-4L
配置: Single N-Channel
漏源电压(VDS): 650V
栅源电压(VGS): -10 / +20V
阈值电压(Vth): 2~5V
导通电阻(RDS(on)): 50 mΩ @ Vgs=18V
连续漏极电流(ID): 40A
核心技术: SiC
选择VBP165C40-4L,不仅是选择了一颗高性能的SiC MOSFET,更是为您的AI数据中心高压电源系统选择了:
更高的能源转换效率,降低运营成本。
更优的高压平台适应性,抢占技术先机。
更可靠的系统保障,确保持续稳定供电。
面向未来的碳化硅技术平台,领先一步。
以尖端宽禁带功率器件,为人工智能数据中心的澎湃算力,奠定高效、坚实的高压能源基石。VBP165C40-4L,为您的下一代AI数据中心高压电源设计注入强大动能!